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高精度光刻机

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主要性能指标:

1.有三种版夹盘,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板。对版的厚度无特殊要求(1~4mm皆可)。

2.设有相对应的真空吸附基片的“承片台”三个,分别适用于4",3",2"片。对于非标准片或碎片,只要堵塞相应的小孔,同样能真空吸附。

3.照明:

光源:采用GCQ200Z型超高压水银直流汞灯。

照明范围:≤ф117mm

不均匀性:ф100mm内±5%

可使用的波长:g线、h线、I线的组合。根据用户要求,可增加I线滤光片。

成象面照明:光照度10~15毫瓦/厘米2,任意可调(出厂时,照明度调在10mw/cm2)。

4.采用进口时间继电器(该继电器可从0.1秒∽999.9秒预设)控制气动快门,动作准确可靠。

5.该机为接触式曝光机,但可实现:

a.硬接触曝光:用管道真空来获得高真空接触。真空≤-0.05MPa。

b.软接触曝光:接触压力可将真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之间。

c.微力接触曝光:小于软接触。真空≥-0.02MPa。

6.分辩率估计:如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定,环境、温度、湿度、尘埃得到严格控制,采用进口正性光刻胶,且匀胶厚度得到严格控制。加之前后工艺先进的话,硬接触曝光的最小分辨度可达2μm以上

7.对准:观察系统为两个单筒显微镜上装二个CCD摄像头,通过视屏线连接到显视屏上。

    对准精度:±0.5μm,套刻精度:1μm

a.单筒显微镜为0.7X~4.5X连续变倍显微镜(也可为1.6X~10X)。

b.CCD摄像机靶面对角线尺寸为:1/3,(6mm);

c.采用19"液晶监视器,其数字放大倍率为19÷1/3=57倍;

d.观察系统放大倍数为:0.7×57≈40倍(最小倍数),4.5×57≈256倍(最大倍数)或(91倍~570倍)。

对准台:(采用片动,版不动方式)

X、Y调整:±5mm。

θ调整:转角≤5°

对准间隙(分离间隙)0~5mm任意可调。

整个对准台相对于显微镜可作±20mm扫描运动。

“接触、分离”20μm情况下,片相对于版的“漂移量”,可调到≤±0.5μm。

8.设备所需能源:

主机电源: 220V±10%   50HZ

洁净空气≥0.4MPα。

真空:-0.07~-0.08MPα。 

9.尺寸和重量:

 尺寸:机体720 mm(长)×720 mm(宽)×882mm(高)。

重量:≤100Kg。

机体放在专用工作台上。

工作台:1100 mm(长)×750 mm(宽)×645 mm(高)。

高度可调范围0~30mm。

重量50Kg(工作台后侧装有电气部分)。

总重量≤200Kg

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